1.電子槍:場發射式電子槍

  2.加速電壓:1kV~30kV

  3.倍率：ｘ40至ｘ300,000（工作距離11mm）

  4.影像模式:二次電子像、背向電子像

  5.二次電子影像解析度: 3 nm at WD 11 mm, 30 kV 

                                 20 nm at 10 kV, 10 nA, WD 11 mm

                                 50 nm at 10 kV, 100 nA, WD 11 mm

  6.探針電流:X10-10A~5X10-6A，穩定度: ± 0.3%/h

  7.分析設備:四組WDS(8個分析晶體)，可分析範圍4Be～92U，
                 一組EDS，可分析範圍5B～92U

  8.配備鍍碳機

1. 顯微組織觀察(二次電子像、背向電子像)
2. WDS及EDS元素定性分析
3. WDS及EDS元素定量分析
4. WDS及EDS元素分佈線掃描及面掃描分析
5. 鍍碳

1. 請到國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約。
2. 每月22日13:00開始開放下個月的預約時段，當月有空檔可隨時預約， 
3. 本儀器在系統中編號為台大貴儀-- EPMA000300場發射電子微探儀。
4. 預約以計畫為單位，每個計畫最多可申請2~5個時段，依照預約人數多寡適時調整。

1. 預約成功後想取消預約，請於7天前自行取消預約，否則繳基本費用。例如預約7/14(星期一)，7/7(星期一)是最後可自行取消的日子。
2. 樣品兩面必須平行，直徑最大33mm，最高14mm。
3. EPMA分析時能量高，試片在電子束照射下會分解、釋放氣體或成為液體之樣品(如高分子材料)，因有礙必要之真空維持，恕不受理。
4. 冷鑲埋對機台有所危害，因此除低熔點材料外不可使用冷鑲埋，如需使用冷鑲埋僅可用相等於或高於struer epofix等級之冷鑲埋劑(固化時間約6~8小時)，且實驗過程中不得照射到冷鑲埋區域(例如面掃描及線掃描實驗禁止涵蓋到冷鑲埋區域)，否則不予接受實驗，表面亦需鍍碳處理，第一次請提供冷鑲埋劑廠牌總類等資料，以供確認。
5. 粉末試片須壓錠或熱鑲埋後研磨拋光。
6. 樣品需導電，不導電之樣品只能鍍碳處理。（鍍碳可於現場處理）
7. 有些元素因為沒有標準試片，無法做準確的定量分析，須自備已知成分的標準試片。
8. 可提前30分鐘左右到實驗室處理樣品。

   負責教授：林新智 教授 02-33664532 E-Mail: hclinntu@ntu.edu.tw

   技術員：高崇源 先生 02-33665241 E-Mail:kcyuant@ntu.edu.tw

   儀器放置地點：台灣大學工學院綜合大樓122-2室

   壹、本儀器自行操作資格分為二級:

         A級操作者:能夠掌控一切事務，可於任何時間自行操作，唯夜間及假日必須事先向技術員提出申請，經指導教授同意後方可使用儀器。

         B級操作者:了解基本操作及緊急應變措施，只能在上班時間自行操作儀器。 

   貳、B級操作者 

        一、須具備碩士班(含)以上身分。

        二、須修過電子顯微鏡學或X光學等相關課程及格(70分以上)，對EPMA有基本概念。

        三、詳讀EPMA操作手冊及實際上機操作訓練12個小時後可申請鑑定，測驗成績在70分以上者，給予B級自行操作執照。 

        四、不通過者須重新接受上機操作訓練6小時，且至少隔一個月才可再考。 

        五、取得B級自行操作執照資格後6個月內，無使用儀器者，資格取消，需重新接受上機訓練3小時並重新鑑定，才能夠再取得資格。 

   參、A級操作者

        一、在取得B級執照後，且使用自行操作時段達9小時，無不良記錄者，可申請A級執照鑑定，鑑定合格，取得A級自行操作執照資格 

        二、取得A級自行操作執照資格後6個月內，無使用儀器者，自動降為B級。 

   肆、鑑定時間由受鑑定者與技術員約定。